Deskripsi Produk Tetramethylammonium hydroxide CAS#75-59-2
Tetrametilamonium hidroksida tampak sebagai padatan terhidrat atau cairan bening yang memiliki bau menyengat seperti amonia. Senyawa ini mudah larut dalam air dan menunjukkan aksi korosif terhadap logam dan jaringan biologis.
Sifat Kimia Tetrametilamonium Hidroksida
| Parameter | Nilai |
| Titik lebur | °C |
| Titik didih | 110 °C |
| kepadatan | 0,866 g/mL pada 25 °C |
| Tekanan uap | 17,5 mm Hg (20 °C) |
| Indeks bias | n20/D 1,384 |
| Fp | 80 °F |
| suhu penyimpanan | Simpan di bawah suhu +30°C. |
| kelarutan | Metanol (Secukupnya), Air (Sedikit) |
| membentuk | Larutan |
| warna | APHA: ≤10 |
| Bau | bau menyengat seperti amonia |
| PH | >13 (H2O, 20°C) |
| Kelarutan Air | Larut dalam air. |
| Peka | Sensitif terhadap Udara |
| Merck | 14.9224 |
| BRN | 3558708 |
| Stabilitas: | Stabil. Mudah terbakar. Tidak kompatibel dengan zat pengoksidasi kuat, asam kuat. |
| DiChiKey | WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M |
| Referensi Basis Data CAS | 75-59-2 (Referensi Basis Data CAS) |
| Sistem Registri Zat EPA | Tetrametilamonium hidroksida (75-59-2) |
Informasi Keselamatan
| Barang | Detail |
| Kode Bahaya | C, T, F, T+, Xn |
| Pernyataan Risiko | 24/25-34-20/21/22-39/23/24/25-23/24/25-10-21/22-25-21-11-67-36-52-48/24-27/28-23-35-36/38 |
| Pernyataan Keamanan | 45-36/37/39-26-16-36/37-28 |
| RIDADR | UN 3286 3/PG 2 |
| WGK Jerman | 1 |
| RTECS | PA0875000 |
| F | 4.4-10-34 |
| TSCA | Ya |
| Kelas Bahaya | 3 |
| Grup Pengepakan | II |
| Kode HS | 29239000 |
| Data Zat Berbahaya | 75-59-2 (Data Zat Berbahaya) |
Aplikasi Produk Tetramethylammonium hydroxide CAS#75-59-2
Tetrametilamonium hidroksida berfungsi sebagai bahan baku untuk pembuatan tetrametilamonium azida. Senyawa ini bertindak sebagai agen etsa anisotropik untuk silikon, pengembang fundamental untuk fotoresist positif dalam proses litografi, surfaktan dalam produksi ferrofluida, dan reagen pendukung dalam analisis polarografi. Senyawa ini banyak digunakan dalam pembuatan organosilikon, sebagai agen pemoles dan pembersih untuk wafer semikonduktor, dan dalam proses pemurnian unsur-unsur logam tertentu. Larutan air 25% berat dari senyawa ini dapat digunakan sebagai pengatur pH untuk mensintesis material aluminofosfat mesopori heksagonal (TAP).
Waktu pengiriman cepat
Persediaan 2-3 hari kerja Produksi baru 7-10 hari kerja
